(1) 浴（yù）法拋光：浴法拋（pāo）光是指工件和（hé）拋光盤都浸在拋光液中，所用裝置示意（yì）圖拋光液的深度以設備靜止時淹沒工件 10～15mm 為宜（yí），

攪拌器是使拋光（guāng）液處於懸浮狀態，不產生沉澱（diàn），拋光玻璃（lí）時一般使用氧化鐵(紅（hóng）粉)、氧化鋁等拋光材料。

 

 

(2) 離子束拋光：離子束拋光是玻璃工件在傳（chuán）統拋（pāo）光後，用來進一步提高拋光精度的補充拋光方法。

先在真空(1.33Pa)條件下，將惰性（xìng）氣體(氬、氪、氙等)原子使用高頻或放電（diàn）等方法使之成為離子，再用（yòng）20～25kV的電壓加速，

然後碰撞到位於1.33×10 Pa真空度的真（zhēn） 空室內的被加工工件表麵上，將能量直（zhí）接傳給（gěi）工件材料原子，使其逸出（chū）表麵而被去除。

 

 

這種方法可以使工件去（qù）除厚度達10～20μm，是典型的用物理碰撞（zhuàng）方法進行的拋光技術，

一般情況下表麵粗糙度可達0.01μm，精度高的達0.6nm。

 

 

(3) 等離子體輔（fǔ）助拋（pāo）光：等離子體輔助拋光（guāng）是（shì）利用化（huà）學反（fǎn）應來去除表麵材料而實現拋光的（de）方法，

采用特（tè）定氣體，製（zhì）成活性等離子（zǐ）體（tǐ），當活性等離子體與工件表（biǎo）麵作用，發生化學反應，

生成易揮發的混合氣體，從而將（jiāng）工件表麵材（cái）料去除。

 

 

由於玻璃（lí）研磨時，機（jī）械（xiè）作（zuò）用是主要的，所以磨料的硬度必須大（dà）於玻璃的硬度。 光學玻璃和日用玻璃研磨加（jiā）工餘量大，

所以一般用剛玉或天（tiān）然金剛砂研磨效（xiào）率高。平板玻璃的研磨加工餘量小，但麵積大，用量多，一般采用價廉的石英砂。

常用拋光（guāng）材料有（yǒu）紅粉（氧（yǎng）化鐵）、氧化（huà）鈰、氧化鉻、氧化鋯、氧（yǎng）化釷等，日用玻（bō）璃加工（gōng）也（yě）有采用長（zhǎng）石粉的。

光學產品新型拋光技術對於光學玻璃（lí）加工，傳統的研磨及拋光方法，從（cóng）精度和效（xiào）率方麵已不適應。

 

 

目前發展了許（xǔ）多新的加工技術，如數控研磨和拋光技術、離子束拋光技術、應力盤拋光技術、超光滑表麵加工技術、

延展性磨削加工（gōng）、彈性發射拋光法、激光（guāng）拋（pāo）光、震動拋光等，這些新技術，已 完全適應光學領域（yù）迅猛發展的要求。

光學透鏡新的加工技術，都邊（biān）檢測（cè）、邊修（xiū）正，不僅加工精度高，而且加工速度提高幾倍到（dào）幾十倍，對人工技術的依賴性已很小，

新研磨和拋光技術的智能化程度都（dōu）很高，重複精度高。數控研（yán）磨和拋光、應力盤拋光技術等，專門針對球（qiú）麵（miàn）和 非球麵光學（xué）透鏡的加工，非常專業化。

 

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